| 학회 | 한국공업화학회 |
| 학술대회 | 2016년 봄 (05/02 ~ 05/04, 여수 엑스포 컨벤션) |
| 권호 | 20권 1호 |
| 발표분야 | (SK이노베이션)한국 화학산업의 최신 연구 동향 |
| 제목 | 전자용 케미컬 기술개발 동향 |
| 초록 | 전자용 Chemical, 특히 반도체 제조공정에 사용되는 PR (Photoresist) 및 PR 하층막은 반도체 제조기술과 함께 발전하고 있다. 반도체 고집적화에 따라 g-line PR, i-Line PR, KrF PR, ArF PR 등 다양한 Resolution의 PR과 함께 Amorphous Carbon Layer를 대체하는 SoC (Spin on Carbon), Resolution 개선을 위한 BARC (Bottom Anti Reflective Coating) 등 Photochemical 들이 개발되어 반도체 제조공정에 적용되었으며, 추가적인 반도체 고집적화, 반도체 제조공정 수율 개선 및 공정 단순화를 위해 보다 뛰어난 성능의 제품 개발이 요구되고 있다. |
| 저자 | 김진웅 |
| 소속 | SK Innovation |
| 키워드 | 전자용 Chemical; Photoresist; SOC; BARC |
