| 초록 |
Atomic Layer Deposition (ALD)는 웨이퍼 형태의 기판에 균일한 두께의 금속과 금속 산화물 박막을 제조하는 선도 기술이다. 그러나, 이 기술은 분말형태의 물질에 적용까지는 아직 이뤄지지 못하고 있다. 본 연구에서는 실험실에서 제작한 ALD 장비를 이용하여 실리카 (SiO2) 나노스피어, 프러시아 블루 (PB) 나노큐브, NaTi2(PO4)3 (NTP) 나노큐브 표면에 TiO2 및 Al2O3 박막을 성공적으로 증착하였다.소듐 이온 배터리로의 전극물질로 유망한 NTP 나노큐브의 표면에 비결정질의 TiO2 박막을 ALD를 이용하여 protective layer로 형성하였다. TiO2로 코팅되지 않은 NTP 나노큐브는 100번의 충방전 사이클 이후 초기 충전 용량의 67.9%를 잃었다. 하지만, TiO2로 코팅된 NTP 나노큐브는 100번의 충방전 사이클 이후의 용량 손실을 22.1%로 감소시켰다. 이를 통해서 촉매, 전극 분야와 같이 분말 형태의 나노입자를 사용하는 여러 응용분야에 ALD가 활용될 수 있을 것으로 예상된다. |
