| 초록 |
Monolayer는 반사방지, 차광 등의 기능 향상이 가능한 단일 코팅층으로서 광학필름, 센서 등 여러 분야에서 활발한 연구가 진행되고 있다. 이전 연구에서는 LB코팅, spin코팅, dip코팅 등 다양한 방법으로 monolayer를 구현하였으나, 공정이 복잡하고 코팅층 표면에 crack이 발생하는 등 문제점이 있었다. 이에 본 연구에서는 공정이 빠르고 간단한 bar코팅을 이용하고, boiling point와 vapor pressure를 기반으로 다양한 용매를 이용하여 실험한 결과, Anisole을 최적의 용매로 선정하였다. PMMA 비드와 반대 전하를 띄는 DTABr surfactant를 혼합하여 비드와 surfactant사이에 정전기적 인력을 부여함으로써 crack 면적은 약 10%정도 감소하였다. 또한, 기재의 표면에너지를 높임으로써, crack 면적을 감소시키고 약 80%의 높은 coverage를 확인하였다. Crack을 최소화하고, ordering을 갖는 monolayer를 구현하였고, 이를 바탕으로 광학필름, 센서 등 광범위한 분야에 잠재적 응용 가능성이 있을 것으로 기대된다. |
