| 학회 |
한국공업화학회 |
| 학술대회 |
2018년 가을 (10/31 ~ 11/02, 제주국제컨벤션센터(ICC JEJU)) |
| 권호 |
22권 2호 |
| 발표분야 |
콜로이드.계면화학_포스터 |
| 제목 |
이종 역상 구조를 통한 김서림 방지 및 자가 세정 표면 처리 연구 |
| 초록 |
일상 생활에서 접할 수 있는 투명 디스플레이부터 미래 기술에 걸맞는 렌즈까지 광학용 투명 기판이 폭넓게 사용되고 있다. 이러한 기판들은 어떠한 환경에도 우수한 광학적 성질을 유지해야 하는데 김서림 현상과 접촉으로 인한 표면 오염 등이 큰 문제로 인식되고 있다. 본 발표에서는 나노구조체 위에 마이크로구조체를 올리는 이종 역상 구조를 구현함으로써 김서림 방지와 자가 세정이 동시에 가능한 새로운 표면을 보이고자 한다. 해당 구조 중에 기저에 있는 나노구조체에서는 공기 중의 물분자들이 모세관 응축현상에 의해 선택적으로 응축되기 때문에 김서림 조건에서 광학적 투명성을 유지할 수 있다. 또한 낮은 표면 에너지의 마이크로구조체로 인해 표면에 흡착되는 여러 오염 물질들을 외부의 물방울에 의해 손쉽게 제거할 수 있는 자가 세정이 가능함을 보이고자 한다. |
| 저자 |
윤종선, 이효민
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| 소속 |
포항공과대 |
| 키워드 |
Antifogging; Omniphobic; Self cleaning
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