| 학회 | 한국공업화학회 |
| 학술대회 | 2022년 봄 (05/11 ~ 05/13, 제주국제컨벤션센터(ICC JEJU)) |
| 권호 | 26권 1호 |
| 발표분야 | 포스터-고분자 |
| 제목 | 수용성 포토레지스트 합성 및 포토리소그래피 패턴 형성 |
| 초록 | 본 연구에서는 다양한 종류의 수용성 네거티브형 포토레지스트를 제조하였으며, 포토리소그래피에 의한 패턴 형성 가능성을 평가하였다. 제조된 포토레지스트의 광가교 반응은 FT-IR과 UV 스펙트럼의 변화를 관찰하여 확인하였다. 수용성 포토레지스트들을 기판 위에 회전 도포하여 박막을 형성시켰다. 형성된 박막에 다양한 조건으로 포토마스크를 통하여 UV를 조사한 후 증류수로 현상하여 네가티브형 패턴을 형성할 수 있음을 확인하였다. |
| 저자 | 유정우, 이수빈, 최재학 |
| 소속 | 충남대 |
| 키워드 | Water-soluble photoresist; Coumarin; Photolithography; Negative-type pattern; Photocrosslinking |
