| 학회 | 한국공업화학회 |
| 학술대회 | 2008년 봄 (05/09 ~ 05/10, 한양대학교(안산)) |
| 권호 | 12권 1호 |
| 발표분야 | 정보전자소재 |
| 제목 | Ion Plating법 ITO-PES 기판의 제조 및 OLED 소자 특성 |
| 초록 | DC 아크방전 이온플레이팅의 수평형 인라인 코팅설비(DC arc discharge ion plating of horizontal type)를 이용하여 polyethersulfone(PES) 필름에 SiO2 buffer layer 및 indium tin oxide(ITO) 투명 전극을 박막으로 증착하였다. 박막 증착은 초기 진공도 5.0*10-6Torr에서 시작하며 Ar 및 O2 가스를 주입하면서 3.0*10-3Torr에서 SiO2 및 ITO target을 이용하여 연속적으로 성막을 하였으며 ITO-PES 필름의 면저항, 표면거칠기, 결정화 및 홀 이동도 등 특성을 조사하였다. 그리고 제조된 ITO-PES 필름을 사용하여 OLED 소자를 제작하였으며 전기광학적 특성을 ITO 유리 기판 사용 소자와 비교 평가를 하였다. |
| 저자 | 최규한1, 김효진1, 박이순2, 송규호1 |
| 소속 | 1(주)신안에스엔피, 2경북대 |
| 키워드 | Ion Plating; ITO-PES |
