| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 1996년 가을 (10/18 ~ 10/19, 경북대학교) |
| 권호 | 2권 2호, p.2515 |
| 발표분야 | 재료 |
| 제목 | 가스상 세정공정에서 자연 산화막 제거에 대한 UV 조사의 영향 |
| 초록 | HF 증기 세정에서 발생하는 H2O 젖음에 의한 비정상적식각, 입자생성과 식각 제어의 어려움 등의 단점과 플라즈마 건식 식각 시유발되는 조사(radiation) 및 이온 충돌에 의한 표면 결함의 유발 등의단점을 피하고 이들의 장점만을 가질 수 있는 가스상 세정 공정을연구하고자 한다. UV/O3을 사용한 유기물의 제거와 UV/NF3/SF6/CF4/H2/N2등의 반응 가스를 사용한 건식 세정 공정에서 공정 변수에 대한 식각거동을 연구하고, 식각 선택도와 표면 조도와의 관계를 연구한다.RGA를 사용한 반응배기물의 분석과 XPS를 사용한 표면 분석을실시하여 UV enhanced gas phase cleaning의 표면 반응 기구를 연구한다. |
| 저자 | 권성구, 김도현 |
| 소속 | 한국과학기술원 화학공학과 공정해석연구실 |
| 키워드 | Dry Cleaning; UV exposure; Native oxide |
| 원문파일 | 초록 보기 |
