| 학회 | 한국고분자학회 |
| 학술대회 | 2014년 봄 (04/10 ~ 04/11, 대전 컨벤션센터) |
| 권호 | 39권 1호 |
| 발표분야 | 고분자구조 및 물성 |
| 제목 | 자유 라디칼/양이온 이중 경화에 따른 경화 거동 분석 및 접착물성 평가 |
| 초록 | 접착소재는 다양한 분야에 적용되고 있으며, 특히 최근 전기 전자 분야의 발전과 더불어 고성능, 다기능의 접착소재에 대한 필요가 증가하고 있다. 이러한 접착소재에 있어 경화는 필수적인 공정이다. 경화 방법에는 대표적으로 열을 이용하는 방법과 광을 이용하는 방법이 있으며, 공정 시간이 월등히 빠른 광을 이용한 경화가 선호되고 있다. 광을 이용한 대표적인 경화 방법은 자유 라디칼 경화와 양이온 경화가 있으며, 자유 라디칼 경화는 빠른 경화 속도와 재료 선택의 폭이 넓은 장점을 가지고 있다. 반면 양이온 경화는 반응속도는 라디칼에 비해 느리지만, 암반응이 가능하다는 장점을 갖고 있다. 본 실험에서는 자유 라디칼 경화와 양이온 경화를 함께 하는 이중경화 방법에 대한 연구를 진행했다. 경화 거동을 관찰하기 위해 Photo-DSC를 측정하였으며, 기본적인 접착물성 실험을 진행하였다. 또한 수축률 측정을 통해 이중 경화에 따른 수축률의 변화를 측정하였다. |
| 저자 | 이태형, 박지원, 유영민, 김현중 |
| 소속 | 서울대 |
| 키워드 | 이중경화; 경화거동; 수축률 |
