| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 2001년 봄 (04/27 ~ 04/28, 연세대학교) |
| 권호 | 7권 1호, p.2130 |
| 발표분야 | 재료 |
| 제목 | 저온 원거리 플라즈마를 이용한 Si 기판의 유기오염물 제거 |
| 초록 | 나노 소자의 개발이 요구되는 시대에 부응하기 위해서는 일차적으로 초정정 기판이 이루어 져야하고 오염물의 제거에 대한 필요성과 표면의 미세 거칠게에 대한 제거가 필수적이다. 기존의 습식 세정은 폐액의 발생으로 인한 환경 문제를 야기 시킬뿐아니라 일부적인 공정에서만 적용가능하였다. 따라서 반도체 기판 세정분야에서 환경 친화적인 공정을 적용하기 위해 원거리 플라즈마를 이용한 실리콘 표면에 존재하는 유기오염물을 정량적으로 관찰하기 위해 in-situ표면분석 시스템을 적용하여 표면에 미치는 영향과 미세 거칠기의 개선에 대한 연구를 하엿다. |
| 저자 | 소현, 이기형, 서형탁, 전형탁, 김영채 |
| 소속 | 한양대 |
| 키워드 | remote plasma; dry cleaning |
| 원문파일 | 초록 보기 |
