| 학회 |
한국고분자학회 |
| 학술대회 |
2002년 봄 (04/12 ~ 04/13, 서울대학교) |
| 권호 |
27권 1호, p.149 |
| 발표분야 |
분자전자 부문위원회 |
| 제목 |
시클로부탄 그룹을 가진 감광성 폴리(아미드-이미드)의 합성 및 특성 |
| 초록 |
감광성 폴리이미드를 포토레지스트로서 응용하면 폴리이미드의 우수한 특성뿐만 아니라 미세패턴 공정이 단순화되는 장점이 있으나 일반용매에 용해되지 않아 가공성이 떨어지는 단점이 있다. 본 연구에서는 광가역 특성이 있는 시클로부탄 고리를 도입하고 용해성을 증가시키기 위해 주쇄 내에 아미드기를 갖는 감광성 폴리(아미드-이미드)를 합성하고 포토레지스트로서의 특성과 광화학 반응에 대하여 연구하였다. 폴리(아미드-이미드)는 시클로부탄고리를 가진 diacid와 불소기를 가진 diamine을 TPP/pyridine 촉매하에서 반응시켜 합성하였으며, 용해성 및 열적 안정성이 비교적 우수한 것으로 나타났다. 또한 254 nm의 자외선을 조사하면 분해되어 포지형 포토레지스트의 특성을 나타내었다.
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| 저자 |
채규호1, 남경한*2, 선금주3, 이미혜**
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| 소속 |
1전남대, 2*듀폰 포토마스크, 3**한국화학(연) |
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