검색결과 : 7건
| No. | Article |
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| 1 |
친환경 수계 박리액의 유동박리 공정 특성 및 청정성 연구 이기성, 이재원, 김용성 Clean Technology, 24(3), 175, 2018 |
| 2 |
초임계 이산화탄소를 이용한 고농도이온주입 포토레지스트의 효율적인 제거 김도훈, 임의상, 임권택 Clean Technology, 17(4), 300, 2011 |
| 3 |
초임계이산화탄소 내에서 공용매 및 초음파를 이용한 고농도 이온주입 포토레지스트의 제거 김승호, 임권택 Clean Technology, 15(2), 69, 2009 |
| 4 |
Efficient stripping of photoresist on metallized wafers by a pause flow of supercritical fluid Chao MR, Chen JL Journal of Hazardous Materials, 169(1-3), 153, 2009 |
| 5 |
Plasma-assisted supercritical carbon dioxide removal process for photoresist stripping applications Wang YP, Lin TJ, Lee TC Journal of the Chinese Institute of Chemical Engineers, 39(3), 243, 2008 |
| 6 |
Challenges of pattern transfer for ultra-low-k OSG film Aurora (TM) ULK Bliznetsov V, Chua ML, Roy MM, Singh N Thin Solid Films, 462-63, 235, 2004 |
| 7 |
The effect of ammonia plasma treatment on low-k methyl-hybrido-silsesquioxane against photoresist stripping damage Chang TC, Mor YS, Liu PT, Tsai TM, Chen CW, Mei YJ, Sze SM Thin Solid Films, 398-399, 632, 2001 |