| 학회 | 한국재료학회 |
| 학술대회 | 2007년 가을 (11/02 ~ 11/02, 성균관대학교) |
| 권호 | 13권 2호 |
| 발표분야 | 반도체재료 |
| 제목 | Nanosphere Lithography(NSL)를 이용한 Si master제작 (Fabrication of Si master by Nanosphere Lithography) |
| 초록 | NSL 공정 기술은 차세대 나노 패터닝 공정기술 중 하나로 매우 낮은 가격과 높은 효율 뿐만 아니라 빠른 공정 시간과 대량 생산의 가능성으로 주목을 받고 있다. 시편의 준비는 15mm×15mm 사이즈의 Si기판을 사용하였다. Si표면을 친수성 표면으로 만들기 위하여 H2SO4:H2O2(3:1)용액에 2시간 동안 담근 후 NH4OH:H2O2:H2O(1:2:6) 용액에 15min, SDS(Sodium Dodecyl Sulfate)용액에 24h동안 세척과정을 거쳤다. 나노스피어 코팅방법은 Spin coating, Drop coating법을 이용하였다. Spin coating법은 350㎕의 나노스피어를 Si 기판에 떨어뜨린 후 1step: 400rpm/5sec, 2step: 800rpm/120sec, 3step: 1400rpm/10sec 으로 실험이 진행되었고, Drop coating법은 100㎕의 나노스피어를 비스듬히 세워진 기판에 떨어뜨려 코팅을 하였다. 이를 SEM(Scanning Electron Microscope)을 이용하여 분석한 결과 Spin coating법 보다 Drop coating법이 nanosphere가 uniform하게 coating이 된 것을 확인하였다. 이 연구에서는 Drop coating법으로 나노스피어를 코팅하여 Ashing 공정과 RIE공정을 거쳐 나노사이즈의 Si master를 제작하였다. |
| 저자 | 박정갑, 정근희, 강치구, 이창형, 서수정 |
| 소속 | 성균관대 |
| 키워드 | Nanosphere Lithography; Sodium Dodecyl Sulfate |
