| 학회 | 한국공업화학회 |
| 학술대회 | 2021년 가을 (11/03 ~ 11/05, 대구 엑스코(EXCO)) |
| 권호 | 25권 2호 |
| 발표분야 | 포스터-환경·에너지 |
| 제목 | 반도체 공정 내 질소산화물 제거를 위한 10 CMM급 고속 오존 산화 및 중화반응 장치 설계 및 실증연구 |
| 초록 | 초연결 사회 구축의 일환으로 4차 산업혁명과 탄소중립 에너지 생산분야의 IoT 및 5G 기술이 적용되며 반도체 수요 급증에 따라 반도체 생산설비에서 발생하는 PFCs, NOx 등 대기오염 물질 처리 기술이 재조명되고 있다. 특히 난분해성 오염물질 제거 중 추가적인 NOx가 발생으로 배출가스 내 고농도로 농축되어 이를 효과적으로 동시에 제거할 수 있는 후처리 공정 적용이 필수적이다. 본 연구에서는 기존의 공정 모델링을 통해 설계된 5 CMM급 오존산화-중화반응장치를 10 CMM급으로 Scale-up하여 설계, 구축하여 오존산화에서는 오존농도, 가스의 처리량 및 체류시간을, 중화반응에서는 중화액의 분사량, 농도 및 온도 등을 변수로 두어 NOx 저감특성을 확인하고자 실증실험을 진행하였다. NOx는 오존농도, 체류시간 및 중화액 온도와 농도 순으로 영향을 받는 것으로 확인되었다. |
| 저자 | 홍기훈, 황상연, 엄성현 |
| 소속 | 고등기술(연) |
| 키워드 | 반도체 폐가스 처리; 질소산화물; 고속 오존산화; NOx 중화 |
