| 학회 |
한국고분자학회 |
| 학술대회 |
2002년 가을 (10/11 ~ 10/12, 군산대학교) |
| 권호 |
27권 2호, p.295 |
| 발표분야 |
기능성 고분자 |
| 제목 |
Synthesis of environmental-beneign photoresist for supercritical CO2 process |
| 초록 |
반도체 산업에서 점차 고직접회로가 요구되어짐에 따라 미세패턴이 가능한 포토레지스트의 개발이 진행되고 있다. 이 대안 중의 하나는 미세 패턴 붕괴를 막기 위해 초임계유체를 현상액으로 하는 ArF용 포토레지스트의 합성이다. 따라서 본 연구에서는 t-butyl methacrylate 와 fluoro side chain을 지닌 methacrylate을 모노머로 다양한 몰비로 공중합하였고, IR과 NMR을 이용하여 구조를 분석하였다. 합성된 고분자의 열적특성은 DSC와 TGA를 이용하여 분석하였다. 합성된 고분자와 광산발생제를 섞어 포토레지스트 용액을 제조한 후 ArF Excimer laser를 사용하여 노광 하였다. 노광 후 초임계상태의 이산화탄소를 이용하여 현상하여, 합성된 고분자의 초임계유체용 레지스트로서의 가능성을 평가하였다. fluoro의 함량이 많을 수록 초임계 이산화탄소에 대한 용해도는 커졌지만, t-butyl 그룹의 상대적 감소로 빛에 대한 감도가 낮아지는 것을 확인하였다.
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| 저자 |
박혜진, 김장엽, 팽세웅, 김호준, 이상원, 허완수
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| 소속 |
숭실대 |
| 키워드 |
포토레지스트; perfluoromethacrylate; 초임계 이산화탄소
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