| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 2017년 봄 (04/26 ~ 04/28, ICC 제주) |
| 권호 | 23권 1호, p.887 |
| 발표분야 | 재료 |
| 제목 | Plasma etching for the fabrication of slanted Si rods as low reflection surfaces |
| 초록 | 저반사표면은 태양전지, 디스플레이 및 전자재료 등의 응용분야에서 중요한 연구 중 하나이다. 저반사표면은 표면 텍스쳐링 (texturing) 또는 반사방지막 (anti-reflection coating) 으로 구현할 수 있다. 태양전지에서는 효율을 증가시키기 위해 습식 또는 건식으로 표면을 식각하여 광학적 손실을 줄이고 빛을 모으는 텍스쳐링 기술을 도입하였다. 지금까지 많은 연구자들은 텍스쳐링 기술을 통해 피라미드 모양이나 수직 기둥 모양으로 표면에 요철구조를 형성하여 저반사표면을 구현하였다. 피라미드 모양은 주로 습식식각으로 형성하기 때문에 형상제어가 균일하지 않고 기판의 결정방향에 영향을 받는다. 수직 기둥 모양은 건식식각으로 제작하며 기둥의 종횡비가 증가할수록 반사도가 낮아지는 연구 결과가 있으나 기둥의 각도에 따른 반사도의 변화는 현재까지 연구 진행된 바 없다. 본 연구에서는 다양한 각도의 Si 기둥을 플라즈마 식각으로 제작하였으며, Si 기둥의 각도, 높이 등을 조절하여 표면반사도를 관찰하였다. 수직 Si 기둥을 기준으로 Si 기둥의 각도가 낮아질수록 반사도가 낮아졌고 일정 각도 이하에서는 반사도의 변화가 줄어들었다. 특정 각도로 형성된 Si 기둥의 반사도는 수직 Si 기둥에 비해 절반 이하의 결과를 보였다. |
| 저자 | 김준현, 김창구 |
| 소속 | 아주대 |
| 키워드 | 화공소재 전반 |
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| 원문파일 | 초록 보기 |
