| 학회 | 한국고분자학회 |
| 학술대회 | 2003년 가을 (10/10 ~ 10/11, 부경대학교) |
| 권호 | 28권 2호, p.188 |
| 발표분야 | 분자전자 부문위원회 |
| 제목 | 용해성 폴리이미드의 용해 억제제로서 옥심-우레탄 그룹을 가진 광염기 발생제의 포토레지스트에 응용 |
| 초록 | 용해성 폴리이미드에 벤조페논과 옥심-우레탄 그룹을 가진 화합물을 첨가시키면 용해억제제로 작용하여 현상액에 녹지 않았다. 여기에 310 nm의 자외선을 쪼이면 옥심-우레탄 그룹의 광분해로 인해 생성된 아민과 폴리이미드와 화학반응이 일어나 용해도가 증가하는 반응을 이용하여 포지형의 포토레지스트를 제조할 수 있었다. 옥심-우레탄 그룹을 가진 화합물로는 benzophenoneoxime hexamethyldiurethane (HMDU)를 사용하였고 폴리이미드는 용해성을 높이기 위하여 불소기를 가진 diamine인 2,2-bis(4-aminopehnylhexafluoropropane) (APHF)과 자외선의 투과도를 높이기 위하여 사슬형 dianhydride 인 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic dianhydride (CPDA)의 용해성 폴리이미드를 사용하였다. 이 폴리이미드에 벤조페논과 HMDU를 첨가시켜 제조한 필름은 자외선 조사전에는 현상액에 녹지 않았으나 310 nm의 자외선을 조사시키면 분자량이 감소하여 현상액에 녹는 포지형 포토레지스트의 특성이 나타났다. {image1} |
| 저자 | 서지영, 채규호 |
| 소속 | 전남대 |
| 키워드 | 옥심-우레탄; 폴리이미드; 포토레지스트 |
