| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 1998년 가을 (10/23 ~ 10/24, 조선대학교) |
| 권호 | 4권 2호, p.1989 |
| 발표분야 | 촉매/반응공학 |
| 제목 | V2O5/TiO2에 의한 o-Xylene의 산화 반응 속도식 연구 |
| 초록 | o-Xylene의 산화 반응은 매우 강한 발열 반응으로, 주 생성물인 Phthalic Anhydride(PA)는 Surface coating, 알키드 수지·가소제의 합성재료로서 매우 널리 쓰이고크살렌 물감, 페놀프탈레인 등의 색소 원료로써 중요한 물질이다. 1960년대 이전까지 PA의합성 원료로 naphthalene이 사용되었으나 현재는 값이 싸고 수송이 쉬우며 생산물의 고순도와 산화반응으로의 높은 선택도로 인하여 o-xylene을 사용하고 있다. 반응기의 설계와운전에 대해 이해하고 수율의 향상을 위해서 반응 속도와 scheme에 대한 지식이 필요한데이에 대한 다수의 연구가 이루어 졌지만 유용한 자료는 그리 충분치 않다. 이는 생성물의복잡한 조성 때문일 것이며 분석 또한 매우 어렵다. 본 연구의 목표는 이러한 반응의Model을 확립하여 그에 따른 반응 속도식을 얻고, 공정의 전산 모사에 필요한 자료를 얻기위함에 있다. |
| 저자 | 김승준, 박융호, 강신춘 |
| 소속 | 한양대 |
| 키워드 | xylene; phthalic anhydride; kinetics |
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| 원문파일 | 초록 보기 |
