| 학회 | 한국공업화학회 |
| 학술대회 | 2008년 가을 (11/12 ~ 11/14, ICC 제주) |
| 권호 | 12권 2호 |
| 발표분야 | 환경에너지 |
| 제목 | Dry cleaning of organic contaminants on a Si wafer surface using atmospheric& vacuum plasma |
| 초록 | 반도체 제조공정에는 실리콘 표면에 잔류하는 유기오염물질을 제거하기 위해 습식 세정기술이 이용되고 있으나, 최근 환경적인 문제 뿐만 아니라 선폭의 고집적화로 인한 낮은 세정효율로 새로운 건식세정기술이 필요하게 되었다. 이에 대한 효과적인 대안으로 플라즈마 세정기술이 각광을 받고 있으며, 본 연구에서는 상압/진공 플라즈마를 이용하여 실리콘 웨이퍼 표면의 감광액(PR: Photoresist)을 세정하는 연구를 진행하였다. 최적의 세정조건을 결정하기 위해 플라즈마 발생가스의 특성과 인가에너지, 그리고 반응시간을 변화시키면서 실험을 수행하였으며, 다양한 세정성 평가장비로 그 세정특성을 파악하였다. |
| 저자 | 송재동, 백지영, 이명화, 김상범, 김경수 |
| 소속 | 한국생산기술(연) |
| 키워드 | 건식세정; 플라즈마; Photoresist; 실리콘웨이퍼 |
