| 학회 |
한국화학공학회 |
| 학술대회 |
2001년 가을 (10/19 ~ 10/20, 한밭대학교) |
| 권호 |
7권 2호, p.5163 |
| 발표분야 |
재료 |
| 제목 |
환경친화적 O2,H2 플라즈마를 이용한 Photoresist 세정효과 |
| 초록 |
본연구는 초청정 실리콘 기판을 위해 실리콘 표면에 존재하는 감광제의 성분을 현재 사용하고 있는 습식세정 방법이 아닌 원거리 플라즈마를 이용하여 건식세정 방법으로 표면손상없이 제거 하는 실험을 수행하였다. 또한, 세정된 표면의 분석을 위해 초고진공상태의 분석장비와 플라즈마 반응기를 in-line으로 설치하여 대기중 노출을 최소화하여 표면조서을 XPS와 AFM으로 확인하였으며 세정시 발생하는 기체 화합물을 질량분석기로 검출하여 세정이 진행되는 상태를 확인하였으며 표면손상이 없는 최적의 건식세정을 수행하였다. |
| 저자 |
소현, 김의열, 김양도, 전형탁, 김영채
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| 소속 |
한양대 |
| 키워드 |
Photoresist; Cleaning; Plasma; in-line surface analysis
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| E-Mail |
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| 원문파일 |
초록 보기 |
