| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 2002년 가을 (10/24 ~ 10/26, 서울대학교) |
| 권호 | 8권 2호, p.5202 |
| 발표분야 | 재료 |
| 제목 | 실리콘 표면 유기물과 산화막 제거를 위한 플라즈마 효과 |
| 초록 | 원거리 산소와 수소 플라즈마를 실리콘 표면의 오염물을 제거하였다. 산소 플라즈마의 경우 고분자 잔류물을 제거하는데는 효과적이었으나 산소 라디칼과 실리콘의 반응으로 자연 산화막을 형성하는 문제를 초래하였다. 따라서 수소 플라즈마를 이용하여 미소량의 잔류 감광막과 산화막의 형성을 최소화하였다. 이러한 산소 수소 플라즈마를 이용한 혼합공정으로 표면손상을 줄이고 RIE 이후의 잔류 오염물들을 산화막 형성을 최소화하면서 효과적으로 제거 할 수 있었다. |
| 저자 | 소 현, 김의열, 조일래, 전형탁, 김영채 |
| 소속 | 한양대 |
| 키워드 | plasma; photoresist; in-sit analysis |
| 원문파일 | 초록 보기 |
