연구자 : 정지원 (인하대학교)
| No. | Article |
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유기 킬레이터들을 이용한 구리 식각에 대한 반응성 평가 김철희, 임은택, 박찬호, 박성용, 이지수, 정지원, 김동욱 Korean Journal of Materials Research, 31(10), 569, 2021 |
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유기 물질을 사용한 구리박막의 건식 식각에 대한 헥사플루오로이소프로판올 첨가의 영향 박성용, 임은택, 차문환, 이지수, 정지원 Korean Journal of Materials Research, 31(3), 162, 2021 |
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Etch characteristics of CoFeB thin films and magnetic tunnel junction stacks in a H2O/CH3OH plasma Hwang SM, Garay A, Lee IH, Chung CW Korean Journal of Chemical Engineering, 31(12), 2274, 2014 |
| 4 |
Characterization of Cu(In,Ga)Se2 thin films prepared by RF magnetron sputtering using a single target without selenization Kong SM, Fan R, Jung SH, Chung CW Journal of Industrial and Engineering Chemistry, 19(4), 1320, 2013 |
| 5 |
화학용액증착법에 의하여 증착된 CdS 박막의 특성에 대한 Cd 농도의 영향 정성희, 정지원 Applied Chemistry for Engineering, 23(4), 377, 2012 |
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DC 마그네트론 스퍼터링 방법에 의해 증착된 Mo 박막의 특성 공선미, 소우빈, 김은호, 정지원 Korean Chemical Engineering Research, 49(2), 195, 2011 |
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플렉시블 염료 감응형 솔라셀의 효율에 미치는 Indium Zinc Oxide 투명전극의 영향 이도영, 정지원 Korean Chemical Engineering Research, 47(1), 105, 2009 |
| 8 |
rf 마그네트론 스퍼링에 의하여 증착된 TiN 박막의 물성에 대한 증착변수의 영향 이도영, 정지원 Korean Chemical Engineering Research, 46(4), 676, 2008 |
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Inductively coupled plasma reactive ion etching of titanium nitride thin films in a Cl-2/Ar plasma Min SR, Cho HN, Li YL, Lim SK, Choi SP, Chung CW Journal of Industrial and Engineering Chemistry, 14(3), 297, 2008 |
| 10 |
Optical and Electrical Properties of RF-Sputtered Indium Zinc Oxide Films Li YL, Cho HN, Min SR, Lim SK, Chung CW Journal of Industrial and Engineering Chemistry, 13(5), 777, 2007 |
| 11 |
High Density Plasma Etching of Nickel Thin Films Using a Cl2/Ar Plasma Cho HN, Min SR, Bae HJ, Lee JH, Chung CW Journal of Industrial and Engineering Chemistry, 13(6), 939, 2007 |
| 12 |
Cl2/Ar 플라즈마를 이용한 ZnO 박막의 식각 특성 민수련, 이장우, 조한나, 정지원 Journal of the Korean Industrial and Engineering Chemistry, 18(1), 24, 2007 |
| 13 |
Si Nanodot 배열의 형성을 위한 NbOx 나노기둥 마스크의 식각 특성 박익현, 이장우, 정지원 Journal of the Korean Industrial and Engineering Chemistry, 17(3), 327, 2006 |
| 14 |
Indium Zinc Oxide 박막 특성에 대한 O2 농도와 열처리 온도의 영향 조한나, 리유에롱, 민수련, 정지원 Journal of the Korean Industrial and Engineering Chemistry, 17(6), 644, 2006 |
| 15 |
VOx 박막의 구조적 특성과 전기적 특성에 대한 열처리 영향 이장우, 정지원 Journal of the Korean Industrial and Engineering Chemistry, 17(5), 471, 2006 |
| 16 |
자성 메모리의 적용을 위한 나노미터 크기로 패턴된 Magnetic Tunnel Junction의 식각 특성 박익현, 이장우, 정지원 Journal of the Korean Industrial and Engineering Chemistry, 16(6), 853, 2005 |
| 17 |
Study on the Etch Characteristics of CoTb and CoZrNb Magnetic Films Using a Hard Mask in a Cl2/O2/Ar Plasma Shin B, Park IH, Kim TW, Chung CW Journal of Industrial and Engineering Chemistry, 11(2), 235, 2005 |
| 18 |
고밀도 플라즈마 식각에 의한 CoTb과 CoZrNb 박막의 식각 특성 신별, 박익현, 정지원 Korean Chemical Engineering Research, 43(4), 531, 2005 |
| 19 |
Formation of Silicon Nanodot Arrays by Reactive Ion Etching Using Self-Assembled Tantalum Oxide Mask Park IH, Lee JW, Chung CW Journal of Industrial and Engineering Chemistry, 11(4), 590, 2005 |
| 20 |
SiNx 박막을 이용한 Si Nanodot의 형성 이장우, 박익현, 신별, 정지원 Journal of the Korean Industrial and Engineering Chemistry, 16(6), 768, 2005 |
| 21 |
반응성 직류 마그네트론 스퍼터링에 의하여 증착된 IZO 박막의 특성 신별, 정지원 Journal of the Korean Industrial and Engineering Chemistry, 15(3), 300, 2004 |
| 22 |
Cl2/Ar 및 C2F6/Ar discharge를 이용한 NiFe, CoFe 및 IrMn 자성 박막의 유도 결합 플라즈마 반응성 이온 식각 신별, 송영수, 정영진, 정지원 Journal of the Korean Industrial and Engineering Chemistry, 15(5), 503, 2004 |
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Wet Etch Characteristics of NiFe and CoFe Magnetic Thin Films Song YS, Byun YH, Chung CW Journal of Industrial and Engineering Chemistry, 10(2), 215, 2004 |
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Characteristics of Ge2Sb2Te5 Thin Films Deposited by DC Magnetron Sputtering Song YS, Chung CW Journal of Industrial and Engineering Chemistry, 9(5), 551, 2003 |
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강유전체 Bi3.25La0.75Ti3O12 박막의 증착에 대한 결정화 공정의 영향 김혜인, 윤진구, 정지원 Journal of the Korean Industrial and Engineering Chemistry, 14(3), 287, 2003 |
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연신된 폴리(에틸렌 테레프탈레이트)/폴리(메타-자이렌 아디프아미드) 블렌드의 형태구조 남주영, 박수현, 이광희, 정지원, 박동화 Polymer(Korea), 27(4), 313, 2003 |
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Nanometer-Sized Patterning of Polysilicon Thin Films by High Density Plasma Etching Using Cl2 and HBr Gases Song YS, Chung CW Korean Journal of Chemical Engineering, 20(6), 1138, 2003 |
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Growth and Characterization of SrBi2Ta2O9 Thin Films by Chemical Solution Deposition Chung CW, Kim HI, Byun YH Journal of Industrial and Engineering Chemistry, 8(3), 253, 2002 |
| 29 |
Chemical Etching of NiFe and IrMn Thin Films Byun YH, Kim HI, Song YS, Yoon JK, Chung CW Journal of Industrial and Engineering Chemistry, 8(3), 257, 2002 |
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화학 용액 증착법에 의하여 제조된 Bi4Ti3O12 박막의 특성 김혜인, 변요한, 윤진구, 최기섭, 정지원 Journal of the Korean Industrial and Engineering Chemistry, 13(3), 236, 2002 |
| 31 |
Inductively Coupled Plasma Etching of Pb(ZrxTi1- x)O3 Thin Films in Cl2/C2F6/Ar and HBr/Ar Plasmas Chung CW, Byun YH, Kim HI Korean Journal of Chemical Engineering, 19(3), 524, 2002 |
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TiAIN 박막의 Electrical Resistivity에 대한 증착 변수의 영향 송영수, 변요한, 김혜인, 윤진구, 김인숙, 정지원 HWAHAK KONGHAK, 40(4), 529, 2002 |
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CAE를 이용한 TV Speaker Grille 사출 성형의 최적화 김범호, 장우진, 김정훈, 정지원, 박영훈, 최순자 Polymer(Korea), 25(6), 855, 2001 |