검색결과 : 4건
| No. | Article |
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불산-오존-희석 암모니아수 세정에 의한 실리콘 웨이퍼 표면의 미세입자 제거 이건호, 배소익 Korean Chemical Engineering Research, 45(2), 203, 2007 |
| 2 |
오존과 초음파를 이용한 실리콘 웨이퍼의 Post Sliced Cleaning 최은석, 배소익 Korean Journal of Materials Research, 16(2), 75, 2006 |
| 3 |
세정액에 따른 실리콘 웨이퍼의 Cu 및 Fe 불순물 제거 김인정, 배소익 Korean Journal of Materials Research, 16(2), 80, 2006 |
| 4 |
질소 도핑된 P/P - Epitaxial Silicon Wafer의 Slip 및 강도 평가 최은석, 배소익 Korean Journal of Materials Research, 15(5), 313, 2005 |