143 - 148 |
ZPCCY계 바리스터 세라믹스의 전기적 성질 및 제한전압 특성 Electrical Properties and Clamping Voltage Characteristics of ZPCCY-Based Varistor Ceramics 남춘우, 박종아 |
149 - 154 |
핫 엠보싱용 점착방지막으로 사용되는 10nm급 두께의 Teflon-like 박막의 형성 및 특성평가 The Deposition and Characterization of 10 nm Thick Teflon-like Anti-stiction Films for the Hot Embossing 차남구, 김인권, 박창화, 임현우, 박진구 |
155 - 160 |
리튬용융염계 산화성분위기에서 Al-Y 코팅한 Haynes 263의 고온 부식거동 Hot Corrosion Behavior of Al-Y Coated Haynes 263 in Lithium Molten Salt under Oxidation Atmosphere 조수행, 임종호, 정준호, 서중석, 박성 |
161 - 165 |
고밀도 평판형 유도결합 BCl 3 /SF 6 플라즈마를 이용한 GaAs/AlGaAs와 InGaP 반도체의 선택적 식각에 관한 연구 Study of Selective Etching of GaAs over AlGaAs and InGaP Semiconductors in High Density Planar Inductively Coupled BCl 3 /SF 6 Plasmas 유승열, 류현우, 임완태, 이제원, 조관식, 전민현, 송한정, 이봉주, 고종수, 고정상, Pearton SJ |
166 - 171 |
화학적-기계적 혼성공정에 의한 초미세 Fe-6Al-9Si 합금분말의 합성 Synthesis of Extremely Fine Fe-6Al-9Si Alloy Powders by Chemical-Mechanical Hybrid Process 윤종운, 이기선 |
172 - 176 |
알루미늄 나노 분말의 수화반응에 의한 수산화알루미늄 형성 Formation of an Aluminum Hydroxide Fiber by a Hydrolysis of Aluminum Nano Powder 이근희, 오영화, 이창규, 김흥회 |
177 - 182 |
폐 SiC 슬러지를 이용하여 제조한 연속다공질 SiC-Si 3 N 4 복합체의 미세조직 ostructures Of Continuously Porous SiC-Si 3 N 4 Composites Fabricated Using Waste SiC Sludge Gain AK, 이희정, 장희동, 이병택 |
183 - 188 |
웨이퍼의 2단 이면공정이 반도체 칩의 휨 강도에 미치는 영향 The Effect of Dual Wafer Back-Lapping Process on Flexural Strength of Semiconductor Chips 이성민 |
189 - 194 |
촉매의 휘발법에 의한 이산화규소 나노와이어의 성장 Growth of SiO 2 Nanowire by Catalyst Evaporation Method 노대호, 김재수, 변동진, 이재훈, 양재웅, 김나리 |
195 - 201 |
Optical Properties of SnS 2 Single Crystals Lee CI |
202 - 208 |
유기반도체 트랜지스터의 유전체 표면처리 효과 Dielectric Surface Treatment Effects on Organic Thin-film Transistors 임상철, 김성현, 이정헌, 구찬회, 김도진, 정태형 |
209 - 215 |
습식 분무 열분해 방법으로 제조한 코발트 도핑된 티타늄 산화막의 표면 및 광학적 특성 rface and Optical Characteristics of Cobalt Dopped-titanium Oxide Film Fabricated by Water Spray Pyrolysis Technique 송호준, 박영준 |