| 학회 |
한국재료학회 |
| 학술대회 |
2017년 봄 (05/17 ~ 05/19, 목포 현대호텔) |
| 권호 |
23권 1호 |
| 발표분야 |
A. 전자/반도체 재료 분과 |
| 제목 |
Focus ring의 재질 및 구조 변화를 통한 Focus ring의 etch resistance 향상에 관한 연구 |
| 초록 |
Nanoscale 급의 반도체 식각공정에서 웨이퍼 표면 전체에 일정한 식각속도를 유지하여 uniformity를 향상시키는 것은 매우 중요하다. 하지만 웨이퍼의 가장자리에서는 플라즈마가 웨이퍼 중앙에 비해 일정하지 않은 문제가 발생하는바 웨이퍼를 둘러싸는 focus ring을 사용하여 웨이퍼 가장자리에도 비교적 일정한 플라즈마가 형성되도록 하고있다. 하지만 공정 진행시 focus ring은 지속적으로 플라즈마에 노출되어 식각, 부식이 일어나고 웨이퍼에까지 영향을 미치기 때문에 focus ring을 주기적으로 교체 해주어야 하는 문제가 있다. 따라서 etch uniformity 및 etch resistance을 향상시키거나 제어할 수 있는 focus ring을 찾는 중요한 문제이다. 본 연구에서는 focus ring의 물질 및 구조를 변화시켜 plasma sheath를 제어함에 따른 물질의 sputter yield 및 식각 특성을 연구하여 focus ring의 lifetime을 늘릴 수 있는 방안을 제시하였다. 이를 위해 5종류의 polytetrafluoroethylene(PTFE), alumina(Al2O3), zirconia(ZrO2), quartz(SiO2), yttrium oxide(Y2O3) 와 같은 물질과 air gap 을 포함하는 3가지 구조를 제시하여 그에 따른 식각특성을 조사하였다. Scanning electron microscope(SEM)를 통해 물질과 구조에 따른 etch rate을 각각 확인하였고, Stopping and range of ions matter(SRIM) simulation을 통해 물질들의 sputter yield를 비교하였다. |
| 저자 |
김수강, 양경채, 이호석, 이수정, 이원오, 염근영
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| 소속 |
성균관대 |
| 키워드 |
<P>focus ring; focus ring life time; etch rate; sputter yield; plasma sheath potential</P>
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